| 序号 | 特气名称 Name | 所用设备 Equipment | 技术安全说明书 MSDS | 存放位置 Location |
| 1 | 三氯化硼 |  BCl3-MSDS.pdf | 腐蚀有毒气体间 | |
| 2 | 八氟环丁烷 | C4F8-MSDS.pdf | 惰性气体间 | |
| 3 | 甲烷 | CH4-MSDS.pdf | 特气间 | |
| 4 | 三氟甲烷 | CHF3-MSDS.pdf | 惰性气体间 | |
| 5 | 氯气 | Cl2-MSDS.pdf | 腐蚀有毒气体间 | |
| 6 | 二氯二氢硅 | SIH2CL2-MSDS.pdf | 洁净室负一楼 | |
| 7 | 0.95%氟气+氪气+氖气 | 0.95%F2+Kr+Ne-MSDS.pdf | 腐蚀性有毒气体间 | |
| 8 | 氢气 | H2-MSDS.pdf | 易燃易爆间 | |
| 9 | 溴化氢 | HBr-MSDS.pdf | 腐蚀有毒气体间 | |
| 10 | 1.2%氦混氮 | He（1.2%）+N2-MSDS.pdf | 洁净室一楼 | |
| 11 | 氮气 | ICP介质刻蚀机（VERSALINE ICP） 化学气相沉积系统(PECVD） | N2-MSDS.pdf | 洁净室， 腐蚀有毒气体间，易燃易爆间 ，特气间洁净室， 腐蚀有毒气体间，易燃易爆间 ，特气间 |
| 12 | 一氧化二氮 | N2O-MSDS.pdf | 惰性气体间 | |
| 13 | 氨气 | NH3-MSDS.pdf | 特气间 | |
| 14 | 磷烷(15%)+硅烷 | PH3（15%）+SiH4-MSDS.pdf | 特气间 | |
| 15 | 六氟化硫 | 高功率等离子体刻蚀机 不含铟的三五族刻蚀机化学气相沉积系统(ICPCVD) | SF6-MSDS.pdf | 惰性气体间 |
| 16 | 硅烷 | SiH4-MSDS.pdf | 特气间 | |
| 17 | 氟化氢 | HF-MSDS.pdf | 洁净室一楼 | |
| 18 | 氩气 | 惰性气体间 | ||
| 19 | 氧气 | 惰性气体间 | ||
| 20 | 四氟化碳 | 反应离子刻蚀系统 | 惰性气体间 |
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