1. 本页面主要供用户查阅仪器设备信息，可点击具体模块进行搜索，或直接查找设备关键字。
2. 如需了解详细设备内容，请点击设备卡片More
3.如要查询某设备具体在超净实验室的位置，请点击“设备导航”菜单，通过设备编号查询。
1. 主要功能及特色：
采用以气态乙醇作为载气与气态HF混合后，对牺牲层SiO2介质进行选择性刻蚀来释放结构。
2. 主要规格及技术指标：
配置酒精和HF气体侦测器：各1个 |
最大样品尺寸：4寸晶圆 |
刻蚀均匀性：＜10% |
刻蚀速率（热SiO2裸片）：80~300nm/min |
选择比（Au/Al）：＞100:1 |
3.服务内容：
提供用户自主操作、委托加工服务
设备状态良好，可供使用
工艺时间 | 工艺展示 | 内容和指标说明 |
2020.06.30 |
| 刻蚀25min，红外显微镜图片 |
中心地址：上海市浦东新区海科路99号1号楼
联系方式：SMDL@shanghaitech.edu.cn
版权所有：上海科技大学材料器件中心版权所有
