设备类型

收费标准

授权标准

1级设备

按工程师指导的培训/观摩/考核的次数收费

100元/次·人

由工程师培训1次、签订承诺书后直接授权

2级设备

200元/次·人

观摩用户操作1次或工程师培训1次后，考核通过者予以授权

3级设备

500元/次·人

工程师培训1次+观摩工程师或用户操作2次，考核通过者予以授权

4级设备

500元/次·人

工程师培训+观摩工程师操作累计3次后，考核通过者予以授权

5级设备

不开放用户授权，仅提供平台代工服务

设备名称

设备编号

设备级别

光刻工艺服务

显影通风橱

1-7

1级

光刻工艺服务

显影通风橱(大仪名称：普通化学清洗槽)

1-8

1级

光刻工艺服务

显影通风橱(大仪名称：普通化学清洗槽)

1-16B

1级

光刻工艺服务

真空烘箱

1-11

1级

光刻工艺服务

净化烘箱

1-12

1级

光刻工艺服务

高温烘箱

1-10

1级

湿法工艺服务

小样品有机清洗通风橱(大仪名称：普通化学通风柜4)

2-2

1级

湿法工艺服务

HF及BOE专用通风橱(大仪名称：湿法腐蚀台通风橱3)

2-4

1级

湿法工艺服务

普通酸刻蚀及清洗通风橱(大仪名称：湿法腐蚀台通风橱2)

2-5

1级

湿法工艺服务

金属刻蚀及超声清洗通风橱(大仪名称：湿法腐蚀台)

2-6

1级

湿法工艺服务

甩干机   四六寸晶圆

2-7

1级

湿法工艺服务

甩干机   四八寸晶圆

2-8

1级

湿法工艺服务

晶圆甩干机 四六寸晶圆

2-11B

1级

光刻工艺服务

匀胶通风橱(大仪名称：普通化学清洗槽)

1-17B

2级

光刻工艺服务

匀胶通风橱(大仪名称：有机清洗通风橱)

1-5

2级

光刻工艺服务

匀胶通风橱(大仪名称：湿法腐蚀台)

1-6

2级

光刻工艺服务

HMDS烘箱

1-9

2级

光刻工艺服务

低温恒温水槽

1-15B

2级

湿法工艺服务

晶圆清洗刻蚀通风橱

2-09B

2级

湿法工艺服务

RCA晶圆清洗通风橱

2-10B

2级

湿法工艺服务

氮化物清洗槽   磷酸

2-3

2级

湿法工艺服务

6寸有机清洗通风橱(大仪名称：1.5M酸碱通风柜)

2-1

2级

后道工艺服务

减薄抛光系统   lapping

5-3B

4级

后道工艺服务

减薄抛光系统 抛光机 CMP

5-5B

2级

后道工艺服务

打线机（7476D）

5-1

2级

量测技术服务

高真空离子溅射仪 SEM制样磁控溅射

4-14

2级

量测技术服务

椭偏仪   （IR-VASE Mark II M-2000UI)

4-10

2级

量测技术服务

椭偏仪IR   

4-4

2级

量测技术服务

白光轮廓仪   3D Laser

4-9

2级

量测技术服务

光谱反射膜厚仪Filmmetrics(F50-UV)

4-7

2级

量测技术服务

表面轮廓仪 KLA台阶仪

4-5B

2级

量测技术服务

线性扫描轮廓仪

4-6

2级

量测技术服务

光学显微镜(大仪名称：显微镜)

4-12

2级

量测技术服务

显微镜 （DM4M M205C）

4-8

2级

量测技术服务

显微镜   （M2700M）

4-13

2级

量测技术服务

应力测量仪

4-11

2级

其他工艺服务

临界点干燥仪

6-2

2级

镀膜工艺服务

磁控溅射沉积系统 Mo-Cu镀膜机

3-9

5级

镀膜工艺服务

电子束沉积系统 非磁性金属镀膜(PVD200)

3-10

5级

镀膜工艺服务

化学气相沉积系统(PECVD)

3-11

3级

镀膜工艺服务

原子层积系统ALD

3-16

3级

镀膜工艺服务

多靶材溅射仪SPUTTER   介质镀膜 PVD3

3-5

5级

镀膜工艺服务

多靶材溅射仪SPUTTER   磁性金属镀膜 PVD2

3-6

3级

镀膜工艺服务

多靶材溅射仪SPUTTER   非磁性金属镀膜 PVD1

3-7

3级

镀膜工艺服务

热蒸发（国产Al、In）

3-3

3级

镀膜工艺服务

多源炉电子束蒸发系统 金属镀膜

3-4

3级

镀膜工艺服务

有机高分子镀膜机

3-25B

3级

镀膜工艺服务

晶圆电镀系统

3-26B

3级

镀膜工艺服务

高深宽比金属柱制备系统

3-27

3级

刻蚀工艺服务

双离子源刻蚀系统 IBE

3-2

3级

刻蚀工艺服务

等离子刻蚀系统 三五族刻蚀机

3-14

3级

刻蚀工艺服务

高功率等离子体刻蚀机 不含铟的三五族刻蚀机

3-18

3级

刻蚀工艺服务

反应离子刻蚀系统

3-13

3级

刻蚀工艺服务

反应离子刻蚀机（鲁汶ICP）

3-20

3级

刻蚀工艺服务

氟化氙刻蚀仪   XEF2 ETCHER

3-19

3级

刻蚀工艺服务

HF干法刻蚀机

3-22

3级

刻蚀工艺服务

等离子去胶机Asher

3-23

3级

后道工艺服务

贴片机

5-2

3级

量测技术服务

原子力显微镜AFM

4-3

3级

量测技术服务

3D电子扫描显微镜 SEM

4-1

3级

量测技术服务

3D电子扫描显微镜 SEM

4-15

3级

量测技术服务

高分辨X射线衍射仪

4-17B

3级

量测技术服务

低温光电测试系统

4-18

3级

量测技术服务

手动探针测试系统 

4-19B

3级

其他工艺服务

快速退火炉   RTA

6-1

3级

光刻工艺服务

3D电子扫描显微镜半自动EBL

1-14B

4级

光刻工艺服务

接触式光刻系统

1-1

4级

光刻工艺服务

高速高分辨率无掩膜板光刻仪MLA

1-3

4级

光刻工艺服务

投影数字光刻系统（MiScan）

1-18

4级

镀膜工艺服务

电子束金属蒸发系统

3-28

4级

后道工艺服务

倒焊机

5-6

4级

量测技术服务

聚焦离子束显微镜

4-16B

4级

光刻工艺服务

步进式光刻机

1-4

5级

光刻工艺服务

电子束曝光机全自动EBL

1-13B

5级

光刻工艺服务

自动涂胶显影机

1-2

5级

镀膜工艺服务

氮化铝集成溅射仪

3-8

5级

镀膜工艺服务

低压化学气相沉积系统LPCVD

3-24B

5级

镀膜工艺服务

化学气相沉积系统(ICPCVD)

3-12

5级

刻蚀工艺服务

深硅刻蚀机

3-21

5级

刻蚀工艺服务

HBR刻蚀机   硅刻蚀

3-15

5级

刻蚀工艺服务

ICP介质刻蚀机 硅基材料刻蚀机

3-17

5级

后道工艺服务

划片机   Dicing saw

5-4B

5级