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1. 主要功能及特色：
步进式光刻机通过准分子激光器发射出的深紫外光将掩膜版上的图形4倍缩小后复制到样品上，形成光刻胶图形，其深紫外光源波长为248nm，可进行正面或背面对准曝光。
2. 主要规格及技术指标：
光源：248nmKrF准分子激光，三种光源形状(圆形、环形、四级光源) |
曝光剂量：不大于150mJ/cm2 |
曝光单元：不大于22*22mm或14.7*27.4mm |
极限线宽：150nm |
对准精度：25nm(正面)，75nm(背面) |
样品尺寸：4寸标准晶圆、6寸和8寸晶圆（需要改造设备） |
样品厚度：350-800μm(4寸)、350-1000μm(6寸)、500-1300μm(8寸) |
衬底类型：硅基、碳化硅、Ⅲ-Ⅴ族半导体、石英玻璃/蓝宝石透明晶圆 |
衬底要求：包含32.5mm标准平边(4寸)、翘曲小于100μm |
掩模版要求：标准6025石英掩模版 |
3.服务内容：
仅提供委托加工服务
设备状态良好，可供使用
无
无
工艺时间 | 工艺展示 | 内容和指标说明 |
2023.02.28 |
| 0.5μm 135G光刻胶 SHTU&SQDL LOGO 最小线宽150nm |
中心地址：上海市浦东新区海科路99号1号楼
联系方式：SMDL@shanghaitech.edu.cn
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