材料器件中心特殊耗材收费标准
序号 | 耗材名称 | 型号 | 收费标准(元) | 元/单位 | 备注 |
1 | 硅片 | 4寸标准单抛片, <100>N型,低阻 | 150 | 元/片 |
|
2 | 硅片 | 6寸标准单抛片,<100>N型,低阻 | 250 | 元/片 |
|
3 | 硅片 | 8寸标准单抛片, <100>N型,低阻 | 450 | 元/片 |
|
4 | EBL光刻胶 | ZEP520A | 500 | 元/ML |
|
5 | EBL光刻胶 | 495K PMMA A2 | 40 | 元/ML |
|
6 | EBL光刻胶 | 950K PMMA A2 | 40 | 元/ML |
|
7 | EBL光刻胶 | 495K PMMA A4 | 40 | 元/ML |
|
8 | EBL光刻胶 | 950K PMMA A4 | 40 | 元/ML |
|
9 | EBL光刻胶 | MMA(8.5)MAA EL9 | 40 | 元/ML |
|
10 | EBL光刻胶 | MMA(8.5)MAA EL9 | 40 | 元/ML |
|
11 | EBL导电胶 | Discharge H2O | 200 | 元/ML |
|
12 | 打线机金线 | 25um直径 | 10 | 元/cm |
|
13 | 液氮 |
| 10 | 元/L |
|
14 | 滴管 | 1ml、2ml、5ml | 1 | 元/只 |
|
15 | 双氧水 | AR(沪试),≥30.0% | 1 | 元/10ML |
常规试剂耗材,如单次使用量小于500ml,不单独计费 |
16 | 硫酸 | AR(沪试),95.0~98.0% | 1 | 元/10ML | |
17 | 硝酸 | AR(沪试),65.0~68.0% | 1 | 元/10ML | |
18 | 氢溴酸 | AR(沪试),≥40.0% | 2 | 元/10ML | |
19 | 溴 | AR分析纯 | 1 | 元/g | |
20 | 盐酸 | AR(沪试),36.0~38.0% | 1 | 元/10ML | |
21 | HF酸 | GR优级纯 | 1 | 元/10ML | |
21 | 氟化铵 | CMOS | 1 | 元/10g | |
22 | 贵重金属 | Au、Pt、Ge/Au等 | 15 | 元/nm |
|
中心可提供的常规试剂耗材
序号 | 耗材名称 | 型号 | 序号 | 耗材名称 | 型号 |
1 | EBL显影液(邻二甲苯) | O-Xylene | 15 | 无水乙醇 | AR(沪试),≥99.7% |
2 | EBL显影液(MIBK) | MIBK | 16 | 异丙醇 | CMOS |
3 | EBL光刻胶稀释液(thinner) | ZEP-A | 17 | 乙二醇 | AR |
4 | 增粘剂 | HMDS | 18 | 丙酮 | AR |
5 | 增粘剂 | SURPASS4000 | 19 | 乙醚 | AR |
6 | 光刻胶 | SPR3612 | 20 | 三氯乙烯 | AR |
7 | 光刻胶 | SPR 220-3 | 21 | 氨水 | AR(沪试),25~28% |
8 | 光刻胶 | SPR 220-7 | 22 | 双氧水 | AR(沪试),≥30.0% |
9 | 光刻胶 | AZ5214-E | 23 | 硫酸 | AR(沪试),95.0~98.0% |
10 | 光刻胶 | S1805 | 24 | 盐酸 | AR(沪试),36.0~38.0% |
11 | 光刻胶 | S1813 | 25 | HF酸 | GR优级纯 |
12 | 光刻胶 | S1818 | 26 | 氟化铵 | CMOS |
13 | 显影液 | AZ300MIF | 27 | BOE | 6:1(含表面活性剂) |
14 | 去胶液 | NMP | 28 | 磷酸 | AR, ≥85 wt. % in H2O |