光源：248nmKrF准分子激光，三种光源形状(圆形、环形、四级光源)

曝光剂量：不大于150mJ/cm²

曝光单元：不大于22*22mm或14.7*27.4mm

极限线宽：150nm

对准精度：25nm(正面)，75nm(背面)

样品尺寸：4寸标准晶圆、6寸和8寸晶圆（需要改造设备）

样品厚度：350-800μm(4寸)、350-1000μm(6寸)、500-1300μm(8寸)

衬底类型：硅基、碳化硅、Ⅲ-Ⅴ族半导体、石英玻璃/蓝宝石透明晶圆

衬底要求：包含32.5mm标准平边(4寸)、翘曲小于100μm

掩模版要求：标准6025石英掩模版