1.主要功能及特色：

通过预真空室把样品传入工艺腔，并固定在载片工件台上。工艺气体Ar，利用辉光放电原理将氩气Ar分解为氩离子，氩离子经过阳极电场的加速对样品表面进行物理轰击，以达到刻蚀的作用 。属纯物理刻蚀。
配Hiden Analytical Ltd品牌，SIMS二次离子质谱仪终点检测系统，与设备控制融合，自动识别终点。属于物理刻蚀，可以刻蚀各种材料。

2. 主要规格及技术指标：

3.主要配置：

离子束刻蚀主机，真空反应腔室，离子束源，真空系统，控制系统 ，真空进样装置loadlock，SIMS二次离子质谱仪终点监测系统。

4.服务：

提供设备自主操作培训、对外委托加工等服务