1.设备功能：

六甲基二硅氮烷(HMDS)广泛应用于半导体工业中，以提高光刻胶对氧化物的附着

力。HMDS 与氧化物表面发生被称为硅烷化的反应，在反应过程中形成与表面的强结

合。同时，留下与光刻胶容易反应的自由键，增强光刻胶的附着力。

2.样品尺寸：

6寸及以下样品均可。

3.注意事项：

HMDS 真空烘箱主要用于将 HMDS 涂覆至样品上，不能作为普通的烘箱使用。