电子束曝光机全自动EBL-1-13B

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1. 主要功能及特色：

电子束光刻机是利用纳米电子束斑在光刻胶上扫描，改变光刻胶的显影特性，可获得纳米级分辨率的图形结构。微纳器件加工中曝光纳米级结构图型，可用于各种纳米结构及器件、光刻掩膜版以及纳米压印模板等的加工。

2. 主要规格及技术指标：

最大加速电压：125 kV

扫描频率：100 MHz

最小束斑直径：≤4 nm @1nA，≤8 nm @10nA

最小线宽：8 nm（100 um X100 um），20nm（500 um X500 um）

束流大小：50pA、100pA、300pA、500pA、700pA、1nA、3nA、5nA、10nA

OL Aperture：直径120μm

场拼接精度：≤ 10 nm（100 um X100 um），≤ 25 nm（500 um X500 um）

对准精度：≤ 15 nm（100 um X100 um），≤ 30 nm（500 um X500 um）

最大写场范围：3000 um X 3000 um（高速模式） 500 um X 500 um（高精度模式）

样品台步进精度：0.3 nm

最大曝光面积：210 mm X 210 mm

SEM 最大放大倍率：500000

样品尺寸：8寸以下基片及不规则小片

衬底类型：硅基、碳化硅、Ⅲ-Ⅴ族半导体、石英玻璃/蓝宝石透明晶圆

3.服务内容：

仅提供委托加工服务

电子束曝光机 全自动EBL-1-13B