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1. 主要功能及特色:

紫外曝光机通过高压汞灯发射出的紫外光将掩膜版上的图形复制到样品上,形成光刻胶图形,其紫外光源波段为365nm - 450nm,可进行接近式或接触式曝光。

2. 主要规格及技术指标:

样品尺寸10*10mm-25*25mm小尺寸样品、2寸标准晶圆、4寸标准晶圆

样品厚度:小于10mm

掩模版尺寸2.5-7寸、4寸标准版、5寸标准版

掩模版厚度:不小于2.3mm的标准掩模版

紫外光波长:365nm(≈20mW/cm2)、405nm(≈50mW/cm2),双波长

最小分辨率0.8μm

正面对准精度±0.5μm(4寸范围)

背面对准精度±1.0μm(4寸范围)

3.服务内容:

提供用户自主操作、委托加工服务