1. 主要功能及特色：

无掩膜光刻可以不使用掩模板直接描绘光刻胶图形，其使用基于空间光调制器的数字掩模代替传统光刻的物理掩膜，既省去掩模板的成本，又提高了光刻的灵活性，而且可以对设计图形进行快速修改，非常适合研发环境。

2. 主要规格及技术指标：

3.服务内容：

提供用户自主操作、委托加工服务