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反应离子刻蚀系统-3-13
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设备性能学习视频

1. 主要功能及特色:

氮化硅,氧化硅材料的刻蚀工艺

2. 主要规格及技术指标:

样品尺寸:4寸及以下

氮化硅刻蚀速率:>40nm/min

氧化硅刻蚀速率:>25nm/min

3.服务内容:

提供用户自主操作、委托加工服务





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访问量:1464602025年11月04日
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