上海科技大学材料器件中心（ShanghaiTech Material and Device Lab，简称SMDL）是上海科技大学于2019年12月正式设立的面向全社会开放的集成电路先进制造领域的校级公共研发平台和教学实践育人基地。SMDL重点致力于开展三五族半导体材料、微纳电子器件、微机电系统、光电子器件、生物芯片等应用领域的材料生长和器件制备的科学研究和技术开发，促进相关学科交叉和合作研究，开展专硕培养工作，努力建设成为具有重要国内外影响力的公共科研服务平台和创新人才培养基地。
SMDL微加工平台集半导体材料制备、微纳加工、量测技术于一体，拥有1500平方米的超净室，建有针对III-V族、硅光、超导和MEMS器件专用的4-6英寸工艺研发线，工艺线上拥有近百台套国内外先进的光刻、镀膜、刻蚀、清洗、量测及前后道等微纳加工与测试仪器设备，包括Stepper步进式光刻机、EBL电子束曝光机、AlN功能材料生长系统、扫描电子显微镜等大型先进设备，具备10纳米至微米级器件与图形的加工测试能力。
为进一步提升SMDL的技术创新及服务水平，加强关键设备的核心能力建设，更好服务科学研究及社会性开放共享，中心设立“技术创新开放共享课题”（下称“共享课题”），资助非本中心的国内科技工作者，围绕本中心的关键技术领域和核心发展目标，利用本中心微加工平台相关共享资源，开展高水平的合作研究和技术创新研发工作。现对外发布2024年度技术创新开发开放共享课题申请指南。
01 主要研究方向
围绕微电子、光电子、微机电、超导等SMDL关键技术研究领域，本期基于步进式光刻技术进行先进工艺技术研发，对于研发内容面向高难度技术（如挑战OPC及极限线宽的工艺、shot间图形拼接工艺、一种或多种特殊结构如孤立线/密集线/光栅/圆形/方形等设计的工艺、特殊衬底工艺等）的优先资助。
02 申请条件及要求
1、即日起面向上海科技大学内外各类研究实体，征集2024年度技术创新开放共享课题申请书，资助国内相关领域的科技工作者（含博士后，不含本平台人员）利用SMDL平台专项设备步进式光刻机与平台开展合作研究。凡符合上述研究方向的，均可提交申请。
设备名称 | 步进式光刻机 |
主要功能及特色 | 通过准分子激光器发射出的深紫外光将掩膜版上的图形4倍缩小后复制到样品上，形成光刻胶图形，其深紫外光源波长为248nm，可进行正面或背面对准曝光。 |
主要技术指标 | 光源：248nmKrF准分子激光，三种光源形状(圆形、环形、四级光源) 曝光剂量：不大于150mJ/cm2 曝光单元：不大于22*22mm或14.7*27.4mm 极限线宽：150nm 对准精度：25nm(正面)，75nm(背面) 样品尺寸：4寸标准晶圆 样品厚度：350-800μm（4寸） 衬底类型：硅基、碳化硅、Ⅲ-Ⅴ族半导体、石英玻璃/蓝宝石透明晶圆 衬底要求：包含32.5mm标准平边(4寸)、翘曲小于100μm 掩模版要求：标准6025石英掩模版 |
更多详情请点击：https://sqdl.shanghaitech.edu.cn/2023/1016/c13395a1083656/page.htm
2、申请者请仔细阅读《上海科技大学材料器件中心技术创新开放共享课题管理办法》，撰写《上海科技大学材料器件中心技术创新开放共享课题申报表》（模板见附件1），经所在单位同意盖章的申请书电子版请发送SMDL办公室邮箱：liuxh3@shanghaitech.edu.cn，SMDL将组织专家对项目进行评审，待项目批准后开始实施。
申报截止日期：2024年7月15日17:00
课题执行日期：2024年9月1日-2026年8月31日
3、SMDL对合作课题提供共享专项设备免费机时、通用试剂耗材等必要配套措施，并对合作课题涉及到的损耗品进行专项登记与管理。配套措施包括：
（1）优先安排机时，免除5-20万元的共享专项设备所占用的机时费用；
（2）安排专门技术人员参与技术开发与工艺记录；
（3）免费提供实验通用光刻胶等试剂材料。
4、申请对象有义务确保项目过程中形成的新工艺、技术、方法等技术体系可在平台上有效移植，以提高平台技术创新能力。
5.申请对象通过共享课题获得的工艺技术体系、研究数据并据此发表的相关成果（论文、著作等），应在发表的成果中对SMDL予以致谢。SMDL在利用共享课题产生的技术体系服务其他用户时，也需对共享课题合作对象予以致谢。课题合作涉及的其他知识产权问题由双方自行商定。
6、详情请咨询：刘老师，021-20684741，liuxh3@shanghaitech.edu.cn
附件清单（点击下载）：
1、管理规定：
附件1：上海科技大学材料器件中心技术创新开放共享课题管理办法.pdf
2、申请书模板：
附件2：上海科技大学材料器件中心技术创新开放共享课题申报表.docx
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