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1. 主要功能及特色：
电子束光刻机是利用纳米电子束斑在光刻胶上扫描，改变光刻胶的显影特性，可获得纳米级分辨率的图形结构。微纳器件加工中曝光纳米级结构图型，可用于各种纳米结构及器件、光刻掩膜版以及纳米压印模板等的加工。
2. 主要规格及技术指标：
最大加速电压：125 kV |
扫描频率：100 MHz |
最小束斑直径：≤4 nm @1nA，≤8 nm @10nA |
最小线宽：8 nm（100 um X100 um），20nm（500 um X500 um） |
束流大小：50pA、100pA、300pA、500pA、700pA、1nA、3nA、5nA、10nA |
OL Aperture：直径120μm |
场拼接精度：≤ 10 nm（100 um X100 um），≤ 25 nm（500 um X500 um） |
对准精度：≤ 15 nm（100 um X100 um），≤ 30 nm（500 um X500 um） |
最大写场范围：3000 um X 3000 um（高速模式） 500 um X 500 um（高精度模式） |
样品台步进精度：0.3 nm |
最大曝光面积：210 mm X 210 mm |
SEM 最大放大倍率：500000 |
样品尺寸：8寸以下基片及不规则小片 |
衬底类型：硅基、碳化硅、Ⅲ-Ⅴ族半导体、石英玻璃/蓝宝石透明晶圆 |
3.服务内容：
仅提供委托加工服务
设备状态良好，可供使用
无
中心地址：上海市浦东新区海科路99号1号楼
联系方式：SMDL@shanghaitech.edu.cn
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