尊敬的用户:
SQDL平台步进式光刻机自2022年11月起试运行以来,为广大用户提供了优质的技术解决方案,满足用户各类图形转移需求。为进一步优化服务并兼顾设备运维成本,经研究,决定向用户提供全流程的掩膜版定制服务,并恢复匀胶显影、Job编写、曝光等步骤的代工收费,具体执行方案如下:
代工步骤 | 收费内容 | 收费标准 |
匀胶/显影 | 设备机时费+ 代工费 |
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定制掩模板 (可选服务项) | 耗材费+ 代工费 | 1. 仅委托版图设计:代工费2000元/张 2. 仅委托制板:掩模板耗材费+代工费(按16%) 3. 委托版图设计及制板:掩模板耗材费+代工费(按36%) 备注: (1)如需委托版图设计,用户需提供原始曝光图形;(2)制作光刻版所需的基板要求:6英寸,0.25inch厚,Ultra low thermal-expansion quartz 超低热膨胀石英。 |
Job编写 (可选服务项) | 代工费 | 1. 定义mark:1000元(若无套刻需求,不收取此项费用) 2. 定义image:首个image收取500元,后续每增加一个image增加200元 |
曝光 | 设备机时费+ 代工费 |
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以上方案自2023年11月起执行。
特此通知。
上海科技大学量子器件中心(SQDL平台)
2023年11月10日