1.设备功能：

六甲基二硅氮烷(HMDS)广泛应用于半导体工业中，以提高光刻胶对氧化物的附着

力。HMDS 与氧化物表面发生被称为硅烷化的反应，在反应过程中形成与表面的强结

合。同时，留下与光刻胶容易反应的自由键，增强光刻胶的附着力。

2.样品尺寸：

6寸及以下样品均可。

3.注意事项：

HMDS 真空烘箱主要用于将 HMDS 涂覆至样品上，不能作为普通的烘箱使用。

设备状态良好，可供使用

1.主要针对仪器操作步骤、注意事项等进行培训

2.培训方式：用户需要时，按需培训

SQDL平台HMDS烘箱标准操作流程及使用规范（SOP）.pdf

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