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1. 主要功能及特色：
紫外曝光机通过高压汞灯发射出的紫外光将掩膜版上的图形复制到样品上，形成光刻胶图形，其紫外光源波段为365nm - 450nm，可进行接近式或接触式曝光。
2. 主要规格及技术指标：
样品尺寸：10*10mm-25*25mm小尺寸样品、2寸标准晶圆、4寸标准晶圆 |
样品厚度：小于10mm |
掩模版尺寸：2.5-7寸、4寸标准版、5寸标准版 |
掩模版厚度：不小于2.3mm的标准掩模版 |
紫外光波长：365nm(≈20mW/cm2)、405nm(≈50mW/cm2)，双波长 |
最小分辨率：0.8μm |
正面对准精度：±0.5μm(4寸范围) |
背面对准精度：±1.0μm(4寸范围) |
3.服务内容：
提供用户自主操作、委托加工服务
设备状态良好，可供使用
工艺时间 | 工艺展示 | 内容和指标说明 |
2021.09.17 |
| 1μm SPR3612光刻胶 0.8μm Line and Space |
中心地址：上海市浦东新区华夏中路393号
联系方式：SMDL@shanghaitech.edu.cn
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