关于某用户违反SQDL设备操作规则的处罚决定
经查，某用户于6月3日在使用净化室MLA150光刻机进行曝光时，在系统内选用的衬底尺寸是mask2.5inch，然而其实际样品只有5mm宽，直接造成MLA系统故障，该行为直接导致仪器宕机故障排查时间超过21小时，工作人员重新标定设备工作时长8小时，目前确认standard模式工作正常，但series模式仍然有未查明的工作异常。同时，该用户在通风橱进行显影过后，未将通风橱恢复到整洁状态。以上两种行为属于严重违反设备操作规则的行为。
经研究决定，针对以上违规行为，中心给予该用户以下处罚：
1）书面警告；
2）取消MLA150光刻机授权使用权限4周（2021-6-4至2021年7月2日），7月3日起再由用户重新申请培训考核；
3）赔偿设备开放损失费用；
4）由于该违规操作所带来的异常问题有待进一步评估，平台保留追究该用户责任的权利。
相关人员如再发生类似违规行为将加重处罚。如对本处理决定不服，自收到本处理决定之日起3日内，可向SQDL书面申辩。本处罚自6月4日起开始生效。
上海科技大学量子器件中心
2021年6月18日
首页